Objetivo de cátodo de cromo Cr de arco múltiple

El objetivo de cátodo Multi Arc Chrome Cr es un tipo de objetivo de deposición de película delgada que se usa comúnmente en procesos de deposición física de vapor (PVD). Está hecho de cromo (Cr) de alta-pureza y se utiliza para depositar películas delgadas de cromo sobre un sustrato.

El término "multi-arco" se refiere al método de deposición utilizado con este tipo de objetivo. En un proceso PVD de arco múltiple, se genera un arco eléctrico entre el objetivo del cátodo y un ánodo. Esto hace que los átomos del material del cátodo sean expulsados ​​de los objetivos de cromo y depositados sobre el sustrato. Se utilizan múltiples arcos para aumentar la velocidad de deposición y mejorar la calidad de la película.

El cromo es un material popular para los recubrimientos PVD debido a su alta dureza, resistencia al desgaste y a la corrosión. Se utiliza en una amplia gama de aplicaciones, incluidas piezas de automóviles, componentes aeroespaciales y revestimientos decorativos.

Los objetivos de pulverización catódica de cromo generalmente se fabrican mediante un proceso de pulvimetalurgia, que implica compactar polvo de cromo de alta-pureza para darle una forma sólida. Luego, los objetivos de cromo se sinterizan a altas temperaturas para lograr la densidad y microestructura deseadas.

En general, es un componente clave en los procesos PVD para depositar recubrimientos de cromo, que se utilizan ampliamente por su alto rendimiento y atractivo estético.

Especificación:

Material: Cr puro 99,9%-99,99%, aleación de NiCr

Pureza: desde 99,9% (3N) - 99.99%(4N)

Estándar: ASTM, estruendo, JIS, ASME

Tamaño: diámetro 100*40 mm, 100*45 mm, 98*40 mm, 95*40 mm, 80*50 mm, 80*45 mm, 80*40 mm

MOQ: 5 piezas

Característica:

Los objetivos de cromo se producen mediante un proceso avanzado de prensado isostático en caliente (HIP). Los productos incluyen objetivos rectangulares, objetivos de arco, objetivos anulares y objetivos de tubo formados integralmente de gran relación de aspecto, con pureza y densidad controlables, granos finos y uniformes, larga vida útil, etc.

Parámetro:

Otros materiales para objetivo de pulverización catódica.

El objetivo del recubrimiento es una fuente de pulverización catódica que forma varias películas delgadas funcionales sobre el sustrato mediante pulverización catódica con magnetrón, revestimiento de iones multi-y otros tipos de sistemas de recubrimiento en condiciones de proceso apropiadas. En pocas palabras, el material objetivo es el material objetivo bombardeado por partículas cargadas a alta-velocidad. Se utiliza en armas láser de alta-energía. Cuando láseres con diferentes densidades de potencia, diferentes formas de onda de salida y diferentes longitudes de onda interactúan con diferentes objetivos, se producirán diferentes muertes y destrucción. efecto. Por ejemplo: el recubrimiento de pulverización catódica con magnetrón evaporativo consiste en calentar un recubrimiento de evaporación, una película de aluminio, etc. Reemplace diferentes materiales objetivo (como objetivos de aluminio, cobre, acero inoxidable, titanio, níquel, etc.), puede obtener diferentes sistemas de película (como una película de aleación súper-dura,-resistente al desgaste, anti-corrosión, etc.).

Caso de aplicación

Se utiliza ampliamente en diversas industrias para depositar películas delgadas de cromo sobre sustratos. A continuación se muestra un ejemplo de un caso de aplicación:

Una de las principales aplicaciones de los objetivos de cromo es en la industria automotriz para depositar-recubrimientos resistentes al desgaste en componentes del motor, como anillos de pistón, cojinetes y vástagos de válvulas. Estos recubrimientos mejoran la durabilidad y el rendimiento de los componentes y reducen la fricción y el desgaste.

Por ejemplo, un proveedor líder de automóviles solía depositar una capa de cromo duro sobre los anillos de pistón. Los objetivos de cromo estaban hechos de cromo de alta-pureza y tenían un diámetro de 100 mm y un espesor de 3 mm. El proceso PVD utilizó un sistema de deposición de arco múltiple con una atmósfera de gas argón y una velocidad de deposición de 0,2-0,4 μm/min.

El recubrimiento de cromo resultante tenía un espesor de 3-5 µm y exhibía excelente adherencia, resistencia al desgaste y resistencia a la corrosión. Los aros de pistón recubiertos mostraron una mejora significativa en durabilidad y rendimiento en comparación con los aros sin recubrimiento.

Este caso de aplicación ilustra la eficacia de los objetivos de pulverización catódica de cromo para depositar recubrimientos de cromo de alta-calidad para aplicaciones automotrices. El uso de recubrimientos PVD es una forma importante de mejorar el rendimiento y la confiabilidad de los componentes automotrices, y los objetivos de cátodos de cromo Cr de arco múltiple desempeñan un papel fundamental en este proceso. Nosotros, como proveedores de objetivos de cromo, también podemos suministrar objetivos de pellets de cromo, objetivos redondos, objetivos planos y objetivos giratorios.

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