Objetivo de cátodo de cromo y cromo de arco múltiple

El cátodo de cromo Cr de arco múltiple es un tipo de cátodo de deposición de película delgada que se utiliza comúnmente en procesos de deposición física de vapor (PVD). Está hecho de cromo (Cr) de alta pureza y se utiliza para depositar películas delgadas de cromo sobre un sustrato.

El término "arco múltiple" se refiere al método de deposición utilizado con este tipo de objetivo. En un proceso de PVD de arco múltiple, se genera un arco eléctrico entre el objetivo catódico y un ánodo. Esto hace que los átomos del material del cátodo sean expulsados ​​de los objetivos de cromo y se depositen sobre el sustrato. Se utilizan arcos múltiples para aumentar la velocidad de deposición y mejorar la calidad de la película.

El cromo es un material popular para los recubrimientos PVD debido a su alta dureza, resistencia al desgaste y resistencia a la corrosión. Se utiliza en una amplia gama de aplicaciones, incluidas piezas de automóviles, componentes aeroespaciales y recubrimientos decorativos.

Los objetivos de pulverización catódica de cromo se fabrican normalmente mediante un proceso de pulvimetalurgia, que implica compactar polvo de cromo de alta pureza hasta darle forma de objetivo sólido. A continuación, los objetivos de cromo se sinterizan a altas temperaturas para lograr la densidad y la microestructura deseadas.

En general, es un componente clave en los procesos PVD para depositar recubrimientos de cromo, que son ampliamente utilizados por su alto rendimiento y atractivo estético.

Especificación:

●Material: Cr puro 99,9 %-99.99 %, aleación de NiCr

●Pureza: desde 99,9 % (3N) hasta 99,99 % (4N)

●Estándar: ASTM, DIN, JIS, ASME

●Tamaño: diámetro 100 x 40 mm, 100 x 45 mm, 98 x 40 mm, 95 x 40 mm, 80 x 50 mm, 80 x 45 mm, 80 x 40 mm

● Cantidad mínima de pedido: 5 piezas

Característica:

Los objetivos de cromo se producen mediante un proceso avanzado de prensado isostático en caliente (HIP). Los productos incluyen objetivos rectangulares, objetivos de arco, objetivos anulares y objetivos de tubo formados integralmente con una gran relación de aspecto, con pureza y densidad controlables, granos finos y uniformes, larga vida útil, etc.

Parámetro:

Otros materiales para el objetivo de pulverización catódica

El objetivo de recubrimiento es una fuente de pulverización catódica que forma varias películas delgadas funcionales sobre el sustrato mediante pulverización catódica con magnetrón, recubrimiento iónico de arco múltiple y otros tipos de sistemas de recubrimiento en condiciones de proceso adecuadas. En pocas palabras, el material objetivo es el material objetivo bombardeado por partículas cargadas de alta velocidad. Se utiliza en armas láser de alta energía. Cuando los láseres con diferentes densidades de potencia, diferentes formas de onda de salida y diferentes longitudes de onda interactúan con diferentes objetivos, se producirán diferentes efectos de muerte y destrucción. Por ejemplo: el recubrimiento por pulverización catódica con magnetrón evaporativo es un recubrimiento por evaporación de calentamiento, película de aluminio, etc. Reemplace diferentes materiales objetivo (como aluminio, cobre, acero inoxidable, titanio, níquel, etc.), puede obtener diferentes sistemas de película (como película de aleación anticorrosión, resistente al desgaste y superdura, etc.).

Caso de aplicación

Este método se utiliza ampliamente en diversas industrias para depositar películas delgadas de cromo sobre sustratos. A continuación, se muestra un ejemplo de un caso de aplicación:

Una de las principales aplicaciones de los blancos de cromo es en la industria automotriz para depositar recubrimientos resistentes al desgaste sobre componentes del motor como anillos de pistón, cojinetes y vástagos de válvulas. Estos recubrimientos mejoran la durabilidad y el rendimiento de los componentes y reducen la fricción y el desgaste.

Por ejemplo, un importante proveedor de la industria automotriz solía depositar un revestimiento de cromo duro sobre los anillos de pistón. Los blancos de cromo estaban hechos de cromo de alta pureza y tenían un diámetro de 100 mm y un espesor de 3 mm. El proceso de PVD utilizó un sistema de deposición de arco múltiple con una atmósfera de gas argón y una velocidad de deposición de 0,2-0,4 μm/min.

El recubrimiento de cromo resultante tenía un espesor de 3-5 μm y exhibía una excelente adhesión, resistencia al desgaste y resistencia a la corrosión. Los anillos de pistón recubiertos mostraron una mejora significativa en la durabilidad y el rendimiento en comparación con los anillos sin recubrimiento.

Este caso de aplicación ilustra la eficacia de los objetivos de pulverización catódica de cromo para depositar recubrimientos de cromo de alta calidad para aplicaciones automotrices. El uso de recubrimientos PVD es una forma importante de mejorar el rendimiento y la confiabilidad de los componentes automotrices, y los objetivos de cátodo de cromo Cr de arco múltiple desempeñan un papel fundamental en este proceso. Nosotros, como proveedores de objetivos de cromo, podemos suministrar objetivos de pellets de cromo, objetivos redondos, objetivos planos y objetivos giratorios también.

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