NiCr 80:20 por ciento en peso de objetivos de pulverización catódica
Objetivos de pulverización de níquel cromo (NiCr 80:20 por ciento en peso) NiCr (80:20 por ciento en peso), Ni80Cr20, NiCr8020, NiCr80/20 por ciento en peso
Pureza: 99,5 por ciento (2N5)
Dimensión (mm): Espesor 16 (más/-0.1) x Ancho 170 (más/-0.5) x Largo 2050/2300 mm, otro tamaño personalizado
Resistance (μΩ.m):>140
Resistencia máxima (mayor o igual a MPa): 440
Elongación (mayor o igual al porcentaje): 20 por ciento
Forma: placa, tubo
Relative Density:>=99.7 por ciento
Técnica: forja y mecanizado
Superficie: color metálico y superficie brillante Ra1.6
Planitud:0.15-0.2mm
Introducción del producto
NiCr 80:20 por ciento en peso Los objetivos de pulverización catódica están compuestos por un 80 por ciento de níquel y un 20 por ciento de cromo. Es un tipo de blanco utilizado en procesos de deposición física de vapor (PVD), particularmente en la técnica de pulverización catódica. Se usa comúnmente en una variedad de aplicaciones, incluida la producción de resistencias de película delgada, contactos electrónicos y recubrimientos resistentes a la corrosión. Están disponibles de una variedad de fabricantes y proveedores que se especializan en objetivos de pulverización catódica y materiales relacionados.
Información general
Material:NiCr(80:20% en peso),Ni80Cr20,NiCr8020,NiCr80/20
Pureza:99,5 por ciento (2N5) - 99,95 por ciento (3N5)
Dimensión (mm): Grosor 16 (más /-0.1) x Ancho 170 (más /-0.5) x Largo 2050/2300 mm Sin empalme O según la demanda
Aplicación de objetivos de pulverización catódica de níquel cromo (objetivos de NiCr 80:20% en peso)
1. vidrio arquitectónico, automóvil con vidrio, campo de visualización gráfica
2. campo electrónico y de semiconductores
3. campo de decoración y moldes
4. materiales de recubrimiento óptico
| Objetivo | Fabricación Técnica | Pureza | Densidad | Tamaño de grano | Especificación de producción | Solicitud |
Fabricación Técnica | Forja de fusión | 2N5-3N5 | 8.4 | >100μm | rotatorio plano Según el dibujo del cliente | Recubrimiento de película Vidrio Lente viuda Plástico decoración |
Parámetro de NiCr(80:20 por ciento en peso)
Nombre | sustancia química principal porcentaje en peso del componente | Componente uso máx. temperatura | Derritiendo Punto | Resistividad μΩ·m,20 | Extensión tasa por ciento | Específico calor J/g. | Calor Conducción Coeficiente KJ/Mh | Lineal expansión coeficiente aX10-6/ | microestructura | Magnético | ||
Ni más Co | cr | Fe | ||||||||||
Ni80 Cr20 | bola | 20-23 | Menos que o igual a 1.0 | 1200 | 1400 | 1.09±0.05 | 20 | 0.440 | 60.3 | 18.0 | austenítico | no magnético |
Objetivos de pulverización catódica de otros metales
Objetivo de pulverización catódica de magnetrón, objetivo giratorio (objetivo de tubo) | |||||
Artículo | pureza | Densidad | forma | Dimensión (mm) | Solicitud |
objetivo TiAl | 2N8- 4N | 3.6-4.2 | Tubo, disco, placa | DE70 x T 7 x L Otro como personalizado | Para objetivos de pantallas planas, industria de las gafas de abrigo (incluyendo vidrio arquitectónico, vidrio automotriz, vidrio óptico) objetivos, objetivos de la industria solar de película delgada, Ingeniería de superficies (decorativas) y herramientas) con objetivos, faro de coche cubierto con objetivos |
Cr objetivo | 2N7-4N | 7.19 | Tubo, disco, placa | DE80 X T8 XL Otro como personalizado | |
objetivo ti | 2N8-4N | 4.15 | Tubo, disco, placa | DE127 x ID105 x largo DE219 x ID194 x largo DE300 x ID155 x largo Otro como personalizado | |
Objetivo Zr | 2N5-4N | 6.5 | Tubo, disco, placa | Otro como personalizado | |
todo el objetivo | 4N-5N | 2.8 | Tubo, disco, placa | ||
ni objetivo | 3N-4N | 8.9 | Tubo, disco, placa | ||
Cu blanco (cobre ) | 3N-4N5 | 8.92 | Tubo, disco, placa | ||
Cu blanco (latón) | 3N-4N5 | 8.92 | Tubo, disco, placa | ||
Ta objetivo | 3N5-4N | 16.68 | Tubo, disco, placa | DE146xID136x299.67 (3 piezas) | |
Introducción
En la industria de recubrimientos, la pulverización catódica de níquel-cromo tiene como objetivo objetivos de aleaciones binarias y las películas se utilizan ampliamente en películas de fortalecimiento de superficies, como resistencia al desgaste, reducción del desgaste, resistencia al calor y resistencia a la corrosión, así como vidrio de baja emisividad (low-E), microelectrónica, magnético En las industrias de alta tecnología, como la grabación, los semiconductores y la resistencia de película delgada, el proceso de tratamiento térmico afecta significativamente la estructura de fase y la microestructura de la aleación.
La microestructura y la composición de microdominios de las aleaciones de Ni-Cr son sensibles al proceso de tratamiento térmico. En el rango de 1000-1200 grados Celsius, el contenido atómico de Ni en la fase BCC cambia del 5 al 30 por ciento. Se propone un proceso de tratamiento térmico de homogeneización adecuado para obtener objetivos de aleación de Ni-Cr de alta calidad con estructura y composición relativamente uniformes. Cuando el contenido atómico del elemento Ni es del 20 por ciento -70 por ciento, el tratamiento térmico de homogeneización es adecuado entre 1200-1300 grados Celsius, y el tiempo de recocido de homogeneización varía con la selección de la temperatura de recocido, y varía en el rango de 2-24H. Con base en la teoría de la colisión en cascada aleatoria y el método de Monte Carlo, los resultados de la simulación de la interacción entre los iones incidentes y el sólido objetivo de la aleación de Ni-Cr en la pulverización con haz de iones muestran que las energías superficiales atómicas de Ni y Cr son relativamente cercanas. , La composición del producto de pulverización catódica del objetivo de aleación de Ni-Cr no se desvía significativamente de la composición del objetivo, lo que es beneficioso para la selección de la composición del objetivo y el control de la composición de la película.
El tiempo de recocido de homogeneización varía con la temperatura de recocido y varía dentro del rango de 2-24h. En general, bajo la premisa de garantizar la uniformidad de la estructura y la composición, cuanto mayor sea la temperatura del tratamiento térmico, menor será el tiempo de tratamiento térmico requerido; por otro lado, con el fin de asegurar la uniformidad de la estructura y la composición Para evitar un crecimiento excesivo del grano, la temperatura de envejecimiento en la etapa final del tratamiento térmico real no debe seleccionarse demasiado alta. La película de nicromo tiene una alta resistividad y un coeficiente de resistencia a baja temperatura. Tiene las características de alto coeficiente de sensibilidad y pequeña dependencia de la temperatura, por lo que a menudo se usa en la preparación de galgas extensiométricas de resistencia de película delgada.
Etiqueta: objetivo de pulverización
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