Objetivo cilíndrico giratorio de titanio

Es un componente utilizado en procesos de deposición física de vapor (PVD), que es un método para depositar películas delgadas de material sobre un sustrato. El objetivo del tubo de titanio está hecho de titanio puro y tiene forma de cilindro que gira durante el proceso de PVD.

El proceso PVD funciona mediante un arco eléctrico o pulverización catódica con magnetrón para vaporizar el material de destino, en este caso, titanio, y depositarlo como una película fina sobre un sustrato. El objetivo cilíndrico giratorio permite una deposición más uniforme de la película de titanio sobre el sustrato.

Las ventajas de su uso en procesos de PVD incluyen una alta pureza de la película depositada, una alta tasa de deposición y una mejor adhesión de la película. Los objetivos rotativos de titanio para pulverización catódica con magnetrón están fabricados con material de titanio de alta calidad y están diseñados para soportar altas temperaturas y tensiones mecánicas durante el proceso de PVD.

Introducción a la especificación

Tamaño normal Tipo:

Nuestra ventaja

Los objetivos de titanio que suministramos tienen granos pequeños, distribución uniforme, alta pureza, pocas inclusiones y alta pureza. La película de TiN depositada se utiliza en decoración, herramientas, semiconductores y otros campos, con buena adhesión, recubrimiento uniforme y colores brillantes.

--Pureza

Para producir un objetivo de pulverización catódica de titanio calificado, la pureza es uno de sus indicadores de rendimiento importantes. La pureza del objetivo de titanio tiene una gran influencia en el rendimiento del recubrimiento por pulverización catódica. Cuanto mayor sea la pureza del objetivo de titanio, menos partículas de elementos de impureza habrá en la película de titanio pulverizada, lo que da como resultado un mejor rendimiento del recubrimiento PVD, incluida una mejor resistencia a la corrosión y propiedades eléctricas y ópticas. Sin embargo, en aplicaciones prácticas, los objetivos de titanio para diferentes propósitos tienen diferentes requisitos de pureza. El material del objetivo se utiliza como fuente de cátodo en la pulverización catódica, y los elementos de impureza y las inclusiones de porosidad en el material son las principales fuentes de contaminación de la película depositada. Las inclusiones de porosidad se eliminarán básicamente durante la prueba no destructiva del lingote, y las inclusiones de porosidad que no se eliminen provocarán descargas durante el proceso de pulverización catódica, lo que afectará la calidad de la película; el contenido de elementos de impureza solo puede reflejarse en los resultados de la prueba del análisis de elementos completos, cuanto menor sea el contenido total de impurezas, mayor será la pureza del objetivo de titanio.

--Densidad

La densidad también es un factor importante para medir la calidad de los objetivos de titanio. Para reducir la porosidad en el sólido objetivo y mejorar el rendimiento de la película pulverizada, normalmente se requiere que el objetivo tenga una mayor densidad.

La densidad del objetivo afecta no solo a la velocidad de pulverización catódica, sino también a las propiedades eléctricas y ópticas de la película. Cuanto mayor sea la densidad del objetivo, mejor será el rendimiento de la película. Además, aumentar la densidad y la resistencia del objetivo permite que éste resista mejor la tensión térmica durante la pulverización catódica. La densidad también es uno de los indicadores clave del rendimiento del objetivo.

--Tamaño de partícula y su distribución

Por lo general, los objetivos de pulverización catódica son estructuras policristalinas con tamaños de grano del orden de varios micrómetros a varios milímetros. Para el mismo objetivo, cuanto menor sea el tamaño de partícula del objetivo, más rápida será la velocidad de pulverización catódica del objetivo; además, el objetivo con una diferencia de tamaño de partícula menor puede pulverizar una película con un espesor más uniforme. El estudio descubrió que si el tamaño de grano del objetivo de titanio se controla por debajo de 100 μm y la variación del tamaño de grano se mantiene dentro del 20%, la calidad de la película pulverizada puede mejorarse en gran medida.

--orientación cristalográfica

El titanio tiene una estructura hexagonal compacta. Dado que los átomos del objetivo de titanio se pulverizan fácilmente a lo largo de la dirección de empaquetamiento hexagonal compacto de los átomos durante la pulverización, para lograr una mayor tasa de pulverización, la estructura cristalina del objetivo se puede cambiar modificando el método para aumentar la tasa de pulverización. La dirección cristalográfica del objetivo de titanio también tiene una gran influencia en la uniformidad del espesor de la película pulverizada.

--Uniformidad estructural

La uniformidad estructural también es uno de los indicadores importantes para examinar la calidad del objetivo. Para los objetivos de titanio, no solo se requiere el plano de pulverización del objetivo, sino también la composición de la dirección normal, la orientación del grano y la uniformidad del tamaño de grano promedio del plano de pulverización. Solo de esta manera, el objetivo de titanio puede obtener una película de titanio con un espesor uniforme, una calidad confiable y un tamaño de grano constante al mismo tiempo durante su vida útil.

Caso de especificación

Velocidad de rotación: El objetivo debe ser capaz de girar a velocidades de hasta varios miles de RPM para lograr una tasa de deposición más uniforme y extender la vida útil del objetivo.

Enfriamiento: El objetivo del tubo de titanio debe enfriarse con agua para disipar el calor generado durante el proceso de deposición y evitar daños al objetivo.
Placa de respaldo: generalmente se utiliza una placa de respaldo de titanio para sostener el objetivo del cilindro giratorio y proporcionar contacto eléctrico.
Método de unión: El objetivo generalmente se une a la placa de soporte mediante unión por difusión u otros métodos de unión de alta resistencia para garantizar una buena conductividad térmica y eléctrica.
Pureza: Los objetivos rotatorios de titanio para la pulverización catódica con magnetrón deben tener un alto nivel de pureza para minimizar las impurezas en las películas depositadas y garantizar un rendimiento constante. El nivel de impurezas debe ser inferior a 1000 partes por millón (ppm) para la mayoría de las aplicaciones.

En general, las especificaciones de un objetivo cilíndrico giratorio de titanio variarán según los requisitos específicos de la aplicación, y el objetivo se puede personalizar para satisfacer estas necesidades.

Etiqueta: Objetivos rotatorios de titanio para pulverización catódica con magnetrón, objetivo de tubo de titanio