Blanco cerámico para pulverización catódica de dióxido de titanio (TiO2)
Blanco de pulverización catódica de cerámica, blanco de pulverización catódica de óxido de titanio, blanco de pulverización catódica de TiO2
Redondo: OD25,4 mm, OD50 mm, OD50,8 mm, OD60 mm, OD76,2 mm, OD80 mm, OD101,6 mm, OD100 mm o según pedido personalizado
Placa: espesor 3 mm, 4 mm, 5 mm, 6 mm, 6,35 mm; también se puede unir una placa posterior de cobre.
Densidad: Mayor o igual a 4,15 g/cm3
Resistividad:<10mΩ.cm
Introducción del producto
El material cerámico de dióxido de titanio TiO2 para pulverización catódica es un material especializado que se utiliza en el proceso de deposición de película fina, que es un método común para recubrir diversas superficies con una capa fina de material. Este proceso se utiliza ampliamente en la industria electrónica para producir dispositivos microelectrónicos, pantallas planas, células solares y otras aplicaciones de película fina.
El material que se utiliza para la pulverización catódica es un material que se bombardea con iones de alta energía para producir una corriente de partículas que luego se depositan sobre un sustrato, lo que da como resultado la formación de una película delgada. Las propiedades del material que se utiliza para la pulverización catódica son fundamentales para la calidad y las características de la película resultante.
El material cerámico de pulverización catódica de dióxido de titanio tio2 al 99,99 % es un material de alta pureza que consta de dióxido de titanio al 99,99 %. Este alto nivel de pureza es esencial para garantizar que la película depositada tenga una composición uniforme, lo cual es esencial para las propiedades deseadas de la película.
El material para pulverización catódica de dióxido de titanio se fabrica normalmente mediante un proceso denominado prensado en caliente, que implica calentar y comprimir el polvo de dióxido de titanio hasta formar un bloque sólido. Este proceso garantiza que el material tenga una densidad uniforme y una superficie lisa, lo que es importante para lograr una deposición de película fina consistente y de alta calidad.
Especificación
Objetivo de TiO2 al 99,99 %
Redondo: OD25,4 mm, OD50 mm, OD50,8 mm, OD60 mm, OD76,2 mm, OD80 mm, OD101,6 mm, OD100 mm o según pedido personalizado
Placa: espesor 3 mm, 4 mm, 5 mm, 6 mm, 6,35 mm; también se puede unir una placa posterior de cobre.
| Control de calidad de los ingredientes | |
| Análisis de la composición de la materia prima: | A través de la detección y análisis del equipo ICP, el contenido de elementos de impurezas para garantizar que la pureza cumpla con el estándar; a través de XRD para verificar si los componentes del polvo son iguales. |
| Detección del tamaño de la apariencia: | Utilice micrómetros y calibradores de precisión para medir las dimensiones del producto para garantizar el cumplimiento de los dibujos; mida el acabado de la superficie y la limpieza de los productos con un medidor de limpieza de superficies. |
Detección de fallas: | Detectar el objetivo posterior a través de un equipo de detección de fallas para garantizar que la capa de unión sea uniforme y la tasa de unión sea alta. |
Caso de aplicación
Los objetivos de pulverización catódica de dióxido de titanio (TiO2) tienen una amplia gama de aplicaciones en las industrias electrónica, energética y biomédica. A continuación, se muestran algunos ejemplos de cómo se utilizan los objetivos de pulverización catódica de dióxido de titanio:
1. Células solares: se utilizan ampliamente en la producción de células solares. Las películas delgadas de TiO2 depositadas sobre un sustrato sirven como un componente vital en las células solares sensibilizadas por colorante (DSSC) y las células solares de perovskita (PSC). Estas películas delgadas ayudan a mejorar la absorción de la luz y aumentan la eficiencia de la célula solar.
2. Óptica: También se utiliza en la producción de recubrimientos ópticos para lentes, espejos y filtros. Se depositan películas delgadas de TiO2 sobre la superficie de los elementos ópticos para mejorar su rendimiento y reducir el deslumbramiento.
3. Microelectrónica: Se utiliza en la producción de dispositivos microelectrónicos como transistores, condensadores y circuitos integrados. Se depositan películas delgadas de TiO2 sobre el sustrato para mejorar el rendimiento y la durabilidad de estos dispositivos.
4. Aplicaciones biomédicas: Se utiliza en aplicaciones biomédicas como la administración de fármacos y la biodetección. Se depositan películas delgadas de TiO2 sobre sustratos para crear vehículos de administración de fármacos y biosensores que se pueden utilizar para diagnosticar y tratar diversas enfermedades.
5. Almacenamiento de energía: También se utiliza en aplicaciones de almacenamiento de energía, como las baterías de iones de litio. Se depositan películas delgadas de TiO2 sobre la superficie del electrodo para mejorar el rendimiento y la vida útil de la batería.
En todas estas aplicaciones, la alta pureza y consistencia del blanco de pulverización catódica de dióxido de titanio son esenciales para lograr las propiedades deseadas de la película delgada. La calidad del blanco de pulverización catódica desempeña un papel crucial en la calidad y el rendimiento del producto final.
Etiqueta: Cerámica de tio2, cerámica de dióxido de titanio, objetivo de pulverización catódica de dióxido de titanio
También podría gustarte
-

Objetivos multiarco para metales de alta pureza
-

Objetivos de pulverización catódica de aleación de titanio
-

Equipo de tubería de bobina de intercambiador de calor de titanio Gr2
-

Barra conductora de titanio.
-

Objetivo de pulverización catódica de titanio para el campo de la decoración y el moldeo
-

NiCr 80:20 por ciento en peso de objetivos de pulverización catódica
Envíeconsulta


