Ánodo de titanio Ir/Ta para láminas de cobre electrodepositadas

¿Qué es el ánodo de titanio Ir/Ta para lámina de cobre electrodepositada?

Un ánodo de titanio Ir/Ta es un tipo de electrodo que se utiliza en aplicaciones electroquímicas que requieren una alta resistencia a la corrosión y la oxidación. El ánodo está hecho de titanio y recubierto con una capa de iridio (Ir) y tantalio (Ta) mediante un proceso de recubrimiento especializado conocido como deposición por pulverización térmica.

Ir/Taánodo de titanioEl ánodo para láminas de cobre electrodepositadas es un tipo de electrodo que se utiliza en el proceso de galvanoplastia para producir láminas de cobre de alta calidad que se utilizan en placas de circuito impreso (PCB). El ánodo está hecho de titanio, que es un material ideal para aplicaciones de galvanoplastia debido a su alta resistencia a la corrosión, baja reactividad y excelente conductividad.

Durante el proceso de galvanoplastia, el ánodo de titanio se sumerge en una solución electrolítica que contiene iones de cobre. Cuando se aplica una corriente al ánodo, los iones de cobre se depositan sobre el cátodo (una lámina plana de cobre) para formar una fina capa de lámina de cobre. El ánodo de titanio está diseñado para soportar las duras condiciones del proceso de galvanoplastia, incluidas las altas temperaturas, los productos químicos corrosivos y las corrientes eléctricas.

Fabricante

Baoji City Changsheng Titanium Co., Ltd. is the earliest professional anode company to enter the Electrodeposited copper foil industry in China. For more than ten years, the coating technology with independent intellectual property rights has been researched and developed and has reached the international advanced level. The prepared electrode has the characteristics of good conductivity, low oxygen evolution potential, fine coating oxide crystal grains (up to nanometer level), long service life (operating life>40000KA h/m2), y otras características.

Ánodo de titanio para láminas de cobre electrodepositadas

Condiciones de trabajo: H2SO4 Menor o igual a 15% Pb ＜ 50ppm F- ＜ 10ppm

Cl-<60ppm gel content <10ppm

Temperatura: T ＜ 60 grados

Densidad de corriente: I<7000A / m2

Tamaño del ánodo: 7 * 280 * 1375 (juego de 16 piezas)

Requisito de vida útil: 40000 KAH (la vida útil continua durante 8 meses es de 5760 h)

Prueba de rendimiento electroquímico y de vida útil (norma de referencia HG / T2471-2007 Q / CLTN-2012)

Nombre Pérdida de peso intensificada mg Potencial de evolución de oxígeno V Condición de prueba Densidad de corriente A / m2 Vida h

Tantalio e iridio a base de titanio Menor o igual a 10 ＜ 1.43 15% H2SO4 40000 ＞ 1440

Antecedentes e introducción del uso del producto

La lámina de cobre electrodepositada es una lámina de cobre producida mediante sulfato de cobre electrodepositado. Debido a los estrictos requisitos de calidad y rendimiento del producto, la estabilidad de las condiciones de electrodeposición en la producción es estricta y el ánodo debe transportar una gran corriente. El electrodo de titanio recubierto de metal precioso tiene un paso polar estable y un menor consumo de energía. Al mismo tiempo, el ánodo de titanio tiene la ventaja de un uso repetido después de volver a recubrirlo. Una vez que la vida útil del ánodo de titanio llega al final, se puede reutilizar recubriéndolo. De esta manera, se ahorrará mucho en términos de consumo de energía y costo del ánodo. Debido a las ventajas anteriores, los ánodos de titanio recubiertos se utilizan ampliamente en el proceso de fabricación de láminas de cobre electrodepositadas, desde la formación de la lámina de cobre en el extremo frontal hasta el postratamiento de la lámina de cobre.

Bajo la condición de densidad de corriente<8000A / m2, the working life of the anode is generally about 8-10 months.

Ánodos de titanio para láminas de cobre electrodepositadas

Las láminas de cobre electrodepositadas se utilizan en la producción de láminas de cobre de alta calidad que se utilizan en diversas aplicaciones electrónicas, incluidas las placas de circuito impreso, los dispositivos electrónicos y los circuitos integrados. El proceso de galvanoplastia con ánodos de titanio permite la producción de láminas de cobre con un espesor constante, uniformidad y excelentes propiedades de adhesión, lo que las hace adecuadas para el procesamiento a alta velocidad y la impresión de líneas finas.

Además de su alta resistencia a la corrosión y conductividad, los ánodos de titanio revestidos con iridio para láminas de cobre electrodepositadas ofrecen otras ventajas en comparación con los materiales tradicionales para ánodos, como el grafito y el plomo. Los ánodos de titanio son más duraderos y tienen una vida útil más larga, lo que se traduce en menores costos de mantenimiento y un menor impacto ambiental. También son más eficientes en términos de densidad de corriente, lo que se traduce en velocidades de recubrimiento más rápidas y una mayor productividad.

En general, las láminas de cobre electrodepositadas son un componente esencial en la producción de láminas de cobre de alta calidad utilizadas en diversas aplicaciones electrónicas, y sus propiedades únicas las convierten en una opción ideal para el proceso de galvanoplastia.

Etiqueta: Ánodo de titanio Ir/Ta